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晶圓切割機的工藝技術

閱讀:121發(fā)布時間:2024-7-15

1、晶圓切割機工藝簡介

晶圓切割機主要用于切割半導體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基板等,它適用于硅、石英、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮酸鋰、藍寶石和玻璃等材料。其工作原理是通過空氣靜壓主軸帶動金剛石砂輪刀具高速旋轉,沿切割路徑方向對晶片或器件進行切割或開槽。

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2、領域發(fā)展趨勢和方向

隨著減薄技術的發(fā)展和疊層封裝技術的成熟,芯片厚度越來越薄。同時晶圓的直徑逐漸變大,單位面積集成的電路更多,留給分割劃片道的空間變小,技術更新對設備提出了更高的性能要求,晶圓切割機是IC封裝生產的關鍵設備之一,也從6英寸、8英寸發(fā)展到12英寸。

國際封裝行業(yè)的競爭異常激烈,國內封裝企業(yè)急需廉價優(yōu)質的國產晶圓切割機替代進口機型,在減少設備投入的同時,他們可以進一步提高自主封裝技術的研發(fā)能力,從而有效提高國內封裝企業(yè)的國際競爭力和發(fā)展?jié)摿Α?/p>


3、技術指標和主要性能

達到國外同型號的技術水平,能夠公開為用戶提供定制服務,如顯微鏡放大倍數(shù)、刀盤尺寸和型號等。


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