全自動型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-801)

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更新時間：2023-07-03 09:30:41瀏覽次數(shù)：183次

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北京金盛微納科技有限公司

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產品簡介

詳細描述本設備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證

詳細介紹

詳細描述

本設備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。

本設備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產平臺。

本產品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點保護等設計，結合各種硬保護裝置、使設備的安全性、可靠性得到有效保證。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發(fā)和制造，以及能源材料、機械材料，各種無機材料及高分子材料的薄膜制備和表面改性。

產品主要性能指標

型號	PECVD-801
淀積室數(shù)量	單室
淀積室規(guī)格	?400×150mm
樣片臺尺寸	?290mm（熱均勻區(qū)?220mm）
加熱溫度	≤ 300℃
淀積材料	SiO₂、Si₃N₄、非晶硅、碳化硅、類金剛石等
淀積速率	200 - 300 ?/min （與淀積材料和工藝有關）
淀積不均勻性	≤ ±5%
自動化程度	真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動化控制。
人機界面	Windows環(huán)境、觸摸屏操作
操作方式	全自動方式、非全自動方式
自動化裝置的選配	可選擇進口件或國產件