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北京金盛微納科技有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：27條

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聯(lián)系人：林平

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ICP-500全自動感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機

詳細摘要：本產(chǎn)品是“感應(yīng)耦合離子體刻蝕機(ICP)"的全自動產(chǎn)品
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
RIE-501全自動反應(yīng)離子刻蝕機

詳細摘要：本產(chǎn)品是“標準型反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）"的全自動產(chǎn)品
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
IBE-200Z離子束刻蝕機

詳細摘要：本產(chǎn)品是利用低能量平行Ar+離子束對基片表面進行轟擊，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達到選擇刻蝕的目的，它采用純物理的刻蝕原理
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
ICP-5000全自動感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機

詳細摘要：本產(chǎn)品是在“全自動ICP"的基礎(chǔ)上增加了進樣室、真空鎖和機械手自動取送樣片裝置而成的設(shè)備
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
RIE-3反應(yīng)離子刻蝕機

詳細摘要：本產(chǎn)品通過物理與化學相結(jié)合的方法，對很細的線條（亞微米以下）進行刻蝕以形成精細的圖形
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
MSP-620全自動磁控濺射臺

詳細摘要：本產(chǎn)品是“標準型磁控制濺射臺"的全自動產(chǎn)品
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
全自動型反應(yīng)離子刻蝕機RIE-802

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
全自動型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-801)

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
(帶Load_Lock裝置)全自動型感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機ICP-8000

詳細摘要：本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
標準型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-1D)

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應(yīng)用于相關(guān)領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
RIE-24000反應(yīng)離子刻蝕機(帶Load_Lock裝置)

詳細摘要：本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
(帶Load_Lock裝置)全自動型感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP)

詳細摘要：詳細描述本產(chǎn)品具有三種功能：等離子體刻蝕(PE)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(ICP)
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
標準型離子束刻蝕機(IBE)

詳細摘要：詳細描述本產(chǎn)品采用口徑φ150mm考夫曼型離子源，通過結(jié)構(gòu)的雙鉬柵離子光學系統(tǒng)及SHAG技術(shù)保證在φ100mm范圍內(nèi)束流的均勻性為±5%，電子中和...
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
標準型感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP)

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備具有選擇比好，刻蝕速度快、重復性好等特點，它較RIE具有更好的綜合刻蝕效果且應(yīng)用范圍更廣
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
全自動型反應(yīng)離子刻蝕機(RIE)

詳細摘要：本產(chǎn)品是“標準型反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）"的全自動雙室產(chǎn)品
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
PECVD-24000等離子體化學氣相淀積臺(帶Load_Lock裝置)

詳細摘要：本設(shè)備帶有進/取樣室、真空鎖和機械手自動送/取樣片裝置
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
全自動型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-802)

詳細摘要：本設(shè)備是“標準型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD)"的全自動產(chǎn)品
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
標準型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-2D)

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備通過對工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復性，并廣泛應(yīng)用于相關(guān)領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
標準型磁控濺射臺

詳細摘要：本產(chǎn)品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬，單層、多層膜
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言
(帶Load_Lock裝置的)全自動型磁控濺射臺(MSP-3200)

詳細摘要：詳細描述本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
產(chǎn)品型號：所在地：北京市更新時間：2023-07-03 在線留言