等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)，主要適合于高科技生產(chǎn)單位的以下場(chǎng)合：半導(dǎo)體開發(fā)、集成電路開發(fā)、真空電子行業(yè)、TEM、SEM樣品及支架清洗、醫(yī)療器材、　　

特點(diǎn)：
可以更靈活地操作，簡(jiǎn)便地改變處理氣體的種類和處理程序。
不會(huì)對(duì)操作人員的身體造成任何傷害。
其成本對(duì)于等離子處理方法來說是微不足道的。

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。